表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学
文献类型：期刊论文
| 作者 | N.H.特纳; 季明荣; 温庆生; 周开亿 |
| 刊名 | 光谱实验室
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| 出版日期 | 1989 |
| 期号 | 04页码:147-167+146 |
| 关键词 | 谱学 俄歇电子 光谱法 溅射法 分析测试工作 荷电效应 表面分析 俄歇跃迁 穆斯堡尔 薄膜研究 |
| 中文摘要 | 美国《分析化学》(Anal .Chem)杂志每两年分专题发表一次基础述评(Fund.Rev.)比较全面地总结了两年来在本专题范围内所获得的最新成就,信息量极为丰富,这对分析测试工作者了解世界发展动态很有参考价值——可以说,读了它基本上可起到"秀才不出门,全知天下事"的作用。为此,我们从第5卷第2辑起选登有关光谱(能谱)分析几个专题的译文(取名为"动态述评"),同时附上参考文献,以便对某些问题想作详细了解的读者查找。所选专题是:拉曼光谱学,分子荧光、磷光和化学发光光谱法,X射线光谱法,表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学,紫外光及可见光吸收光谱法,发射光谱法,原子吸收、原子荧光和火焰发射光谱法,穆斯堡尔能谱学,核磁共振波谱学等。 |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/8578]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | N.H.特纳,季明荣,温庆生,等. 表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学[J]. 光谱实验室,1989(04):147-167+146. |
| APA | N.H.特纳,季明荣,温庆生,&周开亿.(1989).表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学.光谱实验室(04),147-167+146. |
| MLA | N.H.特纳,et al."表面分析:X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学".光谱实验室 .04(1989):147-167+146. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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