Mo含量对Raney Ni-Mo活性阴极析氢过电位的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高润生; 苏清茂; 张斌; 帅志清; 柯家骏 |
| 刊名 | 表面技术
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| 出版日期 | 1994 |
| 期号 | 01页码:36-38 |
| 关键词 | Mo Raney Ni-Mo 析氢过电位 |
| 中文摘要 | 利用喷涂技术在Raney Ni-Mo活性阴极的基础上研制出了RaneyNi-Mo活性阴极,该阴极的析氢过电位比Raney Ni低,电化学特性比Raney Ni稳定.Raney Ni-Mo中的Mo含量不同,其析氢过电位不同,Mo含量存在一个最佳值,此值与Raney Ni合金中Ni/Al比有关,而与涂层厚度无关. |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/8759]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高润生,苏清茂,张斌,等. Mo含量对Raney Ni-Mo活性阴极析氢过电位的影响[J]. 表面技术,1994(01):36-38. |
| APA | 高润生,苏清茂,张斌,帅志清,&柯家骏.(1994).Mo含量对Raney Ni-Mo活性阴极析氢过电位的影响.表面技术(01),36-38. |
| MLA | 高润生,et al."Mo含量对Raney Ni-Mo活性阴极析氢过电位的影响".表面技术 .01(1994):36-38. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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