PCVD法制取β-SiC超微粉末
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郭家银; 郑国梁 |
| 刊名 | 化工冶金
 |
| 出版日期 | 1991 |
| 期号 | 01页码:1-7 |
| 关键词 | 等离子体 气相化学反应 β-SiC 超微陶瓷粉末 烧结 |
| 中文摘要 | 本文以 CH_3SiCl_3为原料,利用 PCVD(Plasma Chemical Vapor Depo-sition)法制取了β—SiC 超微陶瓷粉末。平均粒径<0.1μm,SiC 含量可达到96%,氧含量可小于1.5%。实验探讨了粉末成分与诸因素关系;提供了粉末烧结性能的初步试验研究结果. |
| 收录类别 | CSCD |
| CSCD记录号 | CSCD:149358 |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/8791]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭家银,郑国梁. PCVD法制取β-SiC超微粉末[J]. 化工冶金,1991(01):1-7. |
| APA | 郭家银,&郑国梁.(1991).PCVD法制取β-SiC超微粉末.化工冶金(01),1-7. |
| MLA | 郭家银,et al."PCVD法制取β-SiC超微粉末".化工冶金 .01(1991):1-7. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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