高纯氧化铝中杂质铁、钠、钾的X射线荧光法测定
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄鑫泉; 胡洁雪; 李杜若 |
| 刊名 | 光谱实验室
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| 出版日期 | 1989 |
| 期号 | 05页码:239-242 |
| 关键词 | 荧光法测定 X射线荧光 杂质测定 自动荧光 中子活化法 激发源 测量条件 周期长 计数率 管流 |
| 中文摘要 | <正> 对用作绝缘材料的高纯氧化铝中杂质的允许含量钾和钠量小于0.01%,铁量小于0.02%。关于其中杂质测定,有采用中子活化法进行检测,但该法费用高,周期长,不适于研究过程测试的要求。至于X射线荧光法测定高纯氧化铝,特别是直接压块法,尚未见有报导。本文通过实验,就此法的可行性进行了探讨。一、实验部分(一)测量条件仪器:[日]理学3070全自动荧光X射线光谱仪。激发源:铑靶X光管。管压与管流:50千伏,50毫安。其它测试条件如表1所示。 |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/8868]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄鑫泉,胡洁雪,李杜若. 高纯氧化铝中杂质铁、钠、钾的X射线荧光法测定[J]. 光谱实验室,1989(05):239-242. |
| APA | 黄鑫泉,胡洁雪,&李杜若.(1989).高纯氧化铝中杂质铁、钠、钾的X射线荧光法测定.光谱实验室(05),239-242. |
| MLA | 黄鑫泉,et al."高纯氧化铝中杂质铁、钠、钾的X射线荧光法测定".光谱实验室 .05(1989):239-242. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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