镍-碳化钨氢催化阴极表面积与活性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李兆军; 徐永兰; 赵韫; 卢维昌 |
| 刊名 | 化工冶金
 |
| 出版日期 | 1992 |
| 期号 | 03页码:232-237 |
| 关键词 | 阴极 电催化 活性表面 氢析出 |
| 中文摘要 | 本文对氯碱工业离子膜电解槽的镍网阴极基底进行电复合镀Ni-WC,考察了电极有效面积与电极对氢析出的催化活性间的关系,分析了随着电极有效表面积增大,电极上析氢反应机理的变化.当镀层荷载量达到一定程度时,电极的催化活性可达Pt、Pd等贵金属电极的水平. |
| 收录类别 | CSCD |
| CSCD记录号 | CSCD:178093 |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9011]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李兆军,徐永兰,赵韫,等. 镍-碳化钨氢催化阴极表面积与活性[J]. 化工冶金,1992(03):232-237. |
| APA | 李兆军,徐永兰,赵韫,&卢维昌.(1992).镍-碳化钨氢催化阴极表面积与活性.化工冶金(03),232-237. |
| MLA | 李兆军,et al."镍-碳化钨氢催化阴极表面积与活性".化工冶金 .03(1992):232-237. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。