气膜除疤氧化炉内流场的数值模拟
文献类型：期刊论文
| 作者 | 许厚文; 张森 |
| 刊名 | 化工冶金
 |
| 出版日期 | 1988 |
| 期号 | 03页码:1-6 |
| 关键词 | TiCl_4氧化炉 气膜 流场 数值模拟 |
| 中文摘要 | 本文将数值模拟应用于气膜除疤反应器内的流场预示。对炉内稳定工况,采用未预混反应模型,得到反应转化率的估算值。 |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9445]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 许厚文,张森. 气膜除疤氧化炉内流场的数值模拟[J]. 化工冶金,1988(03):1-6. |
| APA | 许厚文,&张森.(1988).气膜除疤氧化炉内流场的数值模拟.化工冶金(03),1-6. |
| MLA | 许厚文,et al."气膜除疤氧化炉内流场的数值模拟".化工冶金 .03(1988):1-6. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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