选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液
文献类型：期刊论文
| 作者 | 丁锐 ; 高飞 ; 苏志国 ; 王平 ; 马光辉 ; 张松平 |
| 刊名 | 过程工程学报
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| 出版日期 | 2011 |
| 期号 | 03页码:461-467 |
| 关键词 | 表面改性 微流控芯片 聚二甲基硅氧烷 尺寸均一 乳液 |
| 中文摘要 | 利用选择性紫外曝光法对聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片通道内壁进行了部分亲/疏水改性,通过接触角和原子力显微镜对改性表面进行表征,并利用改性后的芯片制备出了高度均一的单乳液和复乳液.结果表明,在芯片的非曝光区域,光引发剂二苯甲酮使PDMS表面粗糙且保持疏水性,接触角为101o;而在曝光区域,由于聚合形成的聚丙烯酸交联到PDMS上使其表面光滑且具有亲水性,接触角为62o,形成的亲/疏水特性可维持30d以上.利用改性后芯片制备的大豆油、三羟甲基丙烷丙烯酸酯和氟碳油3种单乳液的粒径变异系数均低于3%,而复乳液外径和内径的变异系数分别为3.5%和2.9%. |
| 公开日期 | 2014-08-27 ; 2014-08-27 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9801]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 丁锐,高飞,苏志国,等. 选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液[J]. 过程工程学报,2011(03):461-467. |
| APA | 丁锐,高飞,苏志国,王平,马光辉,&张松平.(2011).选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液.过程工程学报(03),461-467. |
| MLA | 丁锐,et al."选择性紫外曝光法修饰微流控芯片用于制备高度均一的单乳液和复乳液".过程工程学报 .03(2011):461-467. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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