铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郭为 ; 余志辉 ; 王京刚 ; 曲景奎 ; 齐涛 ; 韩晓英 |
| 刊名 | 过程工程学报
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 期号 | 04页码:590-594 |
| 关键词 | 铬酸钠 偏铝酸钠 脱硅 脱铝 常压 高压 |
| 中文摘要 | 采用铝硅含量分别为189.65和51.08mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅.常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4MPa,60℃下反应20min,几乎能完全脱除杂质铝.化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别.高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡. |
| 公开日期 | 2014-08-27 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/9926]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭为,余志辉,王京刚,等. 铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除[J]. 过程工程学报,2011(04):590-594. |
| APA | 郭为,余志辉,王京刚,曲景奎,齐涛,&韩晓英.(2011).铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除.过程工程学报(04),590-594. |
| MLA | 郭为,et al."铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除".过程工程学报 .04(2011):590-594. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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