Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study
文献类型：期刊论文
| 作者 | Min Zhang ; Lei Liub ; Xiaoxu Yanga ; Feifei Xua ; Chengsen Liua ; Gong FQ(公发全) |
| 刊名 | surface & coatings technology
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 226页码:186 |
| 通讯作者 | min zhang |
| 合作状况 | 英 |
| 学科主题 | 物理化学 |
| 资助信息 | 3，6 |
| 原文出处 | 190 |
| 语种 | 英 |
| 公开日期 | 2014-09-11 |
| 源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/119337]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Min Zhang,Lei Liub,Xiaoxu Yanga,et al. Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study[J]. surface & coatings technology,2013,226:186. |
| APA | Min Zhang,Lei Liub,Xiaoxu Yanga,Feifei Xua,Chengsen Liua,&公发全.(2013).Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study.surface & coatings technology,226,186. |
| MLA | Min Zhang,et al."Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study".surface & coatings technology 226(2013):186. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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