工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张平余 ; 刘洪 ; 丛秋滋 ; 张绪寿 ; 王秀娥 ; 顾则鸣 |
| 刊名 | 固体润滑
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| 出版日期 | 1991 |
| 卷号 | 11期号:1页码:51-62 |
| ISSN号 | 1004-0595 |
| 关键词 | 等离子体增强化学气相沉积 TiN镀层 物理机械性能 摩擦学性能 晶体学特征 沉积参数 plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) TiN coating physic-mechanical properties tribological characteristic crystallinity deposition parameters |
| 中文摘要 | 本文考察了工艺参数对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN镀层性能的影响, 并且研究了镀层的摩擦学性能与其物理机械性能及结晶学特征之间的关系。结果表明, 当N/H比为1、Ti/N比为21、沉积温度为400 ℃和离化电压为1500 V时, 镀层具有较好的机械性能及耐磨性能。X—射线衍射分析表明,在本试验条件下所获镀层均为(200)面择优取向。作者指出, 要制取理想的TiN镀层, 离化电压应不低于1500 V, 沉积温度必须高于300 ℃。 |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-09-30 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/6356]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_非现建制 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张平余,刘洪,丛秋滋,等. 工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响[J]. 固体润滑,1991,11(1):51-62. |
| APA | 张平余,刘洪,丛秋滋,张绪寿,王秀娥,&顾则鸣.(1991).工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响.固体润滑,11(1),51-62. |
| MLA | 张平余,et al."工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响".固体润滑 11.1(1991):51-62. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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