The oxidation behavior of ultrafine SiC particles prepared by PCVD
文献类型：会议论文
| 作者 | Dai, X. G.; Zheng, G. L.; Rong, J. L.; Wang, J. G. |
| 出版日期 | 1996 |
| 会议名称 | 1996 China/Japan Symposium on Particuology |
| 会议日期 | MAY 24-25, 1996 |
| 会议地点 | TSINGHUA UNIV, BEIJING, PEOPLES R CHINA |
| 关键词 | ultrafine powder SiC PCVD oxidation adsorption |
| 页码 | 174-178 |
| 会议网址 | |
| 会议录 | '96 China-Japan Symposium on Particuology, Proceedings
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| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/11361]  |
| 专题 | 过程工程研究所_生化工程国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 |
Dai, X. G.,Zheng, G. L.,Rong, J. L.,et al. The oxidation behavior of ultrafine SiC particles prepared by PCVD[C]. 见:1996 China/Japan Symposium on Particuology. TSINGHUA UNIV, BEIJING, PEOPLES R CHINA. MAY 24-25, 1996. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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