Damage characteristics of HfO2/SiO2 high re°ector at 45 incidence in 1-on-1 and N-on-1 tests
文献类型：期刊论文
| 作者 | Xiaofeng Liu ; Dawei Li ; Yuan'an Zhao ; Xiao Li ; Xiulan Ling ; Jianda Shao |
| 刊名 | chinese optics letters
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 1页码:41 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 激光技术 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-04-12 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7186]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xiaofeng Liu,Dawei Li,Yuan'an Zhao,et al. Damage characteristics of HfO2/SiO2 high re°ector at 45 incidence in 1-on-1 and N-on-1 tests[J]. chinese optics letters,2010(1):41. |
| APA | Xiaofeng Liu,Dawei Li,Yuan'an Zhao,Xiao Li,Xiulan Ling,&Jianda Shao.(2010).Damage characteristics of HfO2/SiO2 high re°ector at 45 incidence in 1-on-1 and N-on-1 tests.chinese optics letters(1),41. |
| MLA | Xiaofeng Liu,et al."Damage characteristics of HfO2/SiO2 high re°ector at 45 incidence in 1-on-1 and N-on-1 tests".chinese optics letters .1(2010):41. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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