HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhao Wu(赵武) ; Zhang Zhiyong(张志勇) ; Di Chunxue(翟春雪) ; Deng Zhouhu(邓周虎) |
| 刊名 | 光子学报
 |
| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 38期号:4页码:823-826 |
| ISSN号 | 1004-4213 |
| 学科主题 | 物理科学和化学 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-10-08 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/11621]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_研究生部 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao Wu(赵武),Zhang Zhiyong(张志勇),Di Chunxue(翟春雪),等. HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响[J]. 光子学报,2009,38(4):823-826. |
| APA | Zhao Wu,Zhang Zhiyong,Di Chunxue,&Deng Zhouhu.(2009).HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响.光子学报,38(4),823-826. |
| MLA | Zhao Wu,et al."HFCVD法制备纳米晶体碳化硅薄膜中氢流量对晶粒尺寸的影响".光子学报 38.4(2009):823-826. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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