基于SOI衬底加工的微型电场传感器研究
文献类型:期刊论文
作者 | 邓凯 ; 夏善红 ; 龚超 ; 白强 ; 陈绍凤 |
刊名 | 纳米技术与精密工程
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出版日期 | 2004 |
卷号 | 2期号:7页码:284-287 |
关键词 | 微机电系统(MEMS) 绝缘体上硅(SOI) 阳极键合 深反应离子刻蚀 |
ISSN号 | 1672-6030 |
公开日期 | 2010-05-19 |
源URL | [http://159.226.65.12/handle/80137/2881] ![]() |
专题 | 电子学研究所_传感技术国家重点实验室(北方基地)_传感技术国家重点实验室(北方基地)_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓凯,夏善红,龚超,等. 基于SOI衬底加工的微型电场传感器研究[J]. 纳米技术与精密工程,2004,2(7):284-287. |
APA | 邓凯,夏善红,龚超,白强,&陈绍凤.(2004).基于SOI衬底加工的微型电场传感器研究.纳米技术与精密工程,2(7),284-287. |
MLA | 邓凯,et al."基于SOI衬底加工的微型电场传感器研究".纳米技术与精密工程 2.7(2004):284-287. |
入库方式: OAI收割
来源:电子学研究所
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