一种用于制备毛细管沟道及其取样的方法
文献类型:专利
作者 | 郭增军 ; 蔡新霞 ; 李华清 ; 夏善红 ; 王利 ; 饶能高 |
发表日期 | 2010-12-24 |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院电子学研究所 |
中文摘要 | 本发明涉及微机电系统(MEMS)加工工艺和传感技术,用聚二甲基硅氧烷(PDMS)高分子材料和新型环氧负性光刻材料(SU8)制备毛细管沟道及其取样方法,PDMS和SU8是用于微机械加工及微电子的新型材料。先用软件进行毛细管沟道设计,制作掩摸板,用光刻技术对旋涂衬底表面的SU8光刻胶进行高精度加工,得到所需的开放微沟道或微沟道模型,用PDMS的微复制技术组成毛细管沟道流路。在沟道的一端口滴加试样溶液,试样可以部满整个沟道。本发明与微机电系统和集成电路(IC)制造技术等工艺兼容。本发明工艺流程简便、重复性好、制 |
公开日期 | 2004-08-04 ; 2010-12-24 |
申请日期 | 2003-01-16 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN03101532.8 |
专利代理 | 周国城 |
源URL | [http://159.226.65.12/handle/80137/5277] ![]() |
专题 | 电子学研究所_传感技术国家重点实验室(北方基地)_传感技术国家重点实验室(北方基地)_专利 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭增军,蔡新霞,李华清,等. 一种用于制备毛细管沟道及其取样的方法. 2010-12-24. |
入库方式: OAI收割
来源:电子学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。