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一种用于制备毛细管沟道及其取样的方法

文献类型:专利

作者郭增军 ; 蔡新霞 ; 李华清 ; 夏善红 ; 王利 ; 饶能高 
发表日期2010-12-24
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院电子学研究所 
中文摘要本发明涉及微机电系统(MEMS)加工工艺和传感技术,用聚二甲基硅氧烷(PDMS)高分子材料和新型环氧负性光刻材料(SU8)制备毛细管沟道及其取样方法,PDMS和SU8是用于微机械加工及微电子的新型材料。先用软件进行毛细管沟道设计,制作掩摸板,用光刻技术对旋涂衬底表面的SU8光刻胶进行高精度加工,得到所需的开放微沟道或微沟道模型,用PDMS的微复制技术组成毛细管沟道流路。在沟道的一端口滴加试样溶液,试样可以部满整个沟道。本发明与微机电系统和集成电路(IC)制造技术等工艺兼容。本发明工艺流程简便、重复性好、制
公开日期2004-08-04 ; 2010-12-24
申请日期2003-01-16
语种中文
专利申请号CN03101532.8 
专利代理周国城 
源URL[http://159.226.65.12/handle/80137/5277]  
专题电子学研究所_传感技术国家重点实验室(北方基地)_传感技术国家重点实验室(北方基地)_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
郭增军,蔡新霞,李华清,等. 一种用于制备毛细管沟道及其取样的方法. 2010-12-24.

入库方式: OAI收割

来源:电子学研究所

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