新型压制钡钨阴极性能的研究
文献类型:会议论文
作者 | 张红卫 ; 白振纲 ; 俞世吉 ; 丁耀根 |
出版日期 | 2010-09-04 |
会议名称 | 中国电子学会真空电子学分会第七届真空技术应用学术会议 |
会议日期 | 2003 |
关键词 | 钡钨阴极 表面形貌 覆膜浸渍工艺 结构表征 |
页码 | 24-28 |
源URL | [http://159.226.65.12/handle/80137/4469] ![]() |
专题 | 电子学研究所_空间行波管研究发展中心_空间行波管研究发展中心_会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张红卫,白振纲,俞世吉,等. 新型压制钡钨阴极性能的研究[C]. 见:中国电子学会真空电子学分会第七届真空技术应用学术会议. 2003. |
入库方式: OAI收割
来源:电子学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。