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新型压制钡钨阴极性能的研究

文献类型:会议论文

作者张红卫 ; 白振纲 ; 俞世吉 ; 丁耀根
出版日期2010-09-04
会议名称中国电子学会真空电子学分会第七届真空技术应用学术会议
会议日期2003
关键词钡钨阴极 表面形貌 覆膜浸渍工艺 结构表征
页码24-28
源URL[http://159.226.65.12/handle/80137/4469]  
专题电子学研究所_空间行波管研究发展中心_空间行波管研究发展中心_会议论文
推荐引用方式
GB/T 7714
张红卫,白振纲,俞世吉,等. 新型压制钡钨阴极性能的研究[C]. 见:中国电子学会真空电子学分会第七届真空技术应用学术会议. 2003.

入库方式: OAI收割

来源:电子学研究所

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