表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高太元 ; 李明军
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| 刊名 | 润滑与密封
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| 出版日期 | 2009-08-15 |
| 期号 | 8页码:33-38+52 |
| 关键词 | 化学机械抛光,润滑方程,粗糙表面,分形 |
| 通讯作者 | 魏红波 |
| 中文摘要 | 采用随机中点位移法通过计算机模拟抛光垫和晶片的基于分形的粗糙表面,构造了一种新的膜厚方程。在新膜厚方程的基础上分析了一般润滑方程及带离心项的润滑方程对化学机械抛光(CMP)过程中抛光液的压力分布以及无量纲载荷和转矩的影响。结果表明,考虑抛光垫和晶片表面的粗糙程度的影响时,抛光液的压力分布有一定的波动,且压力最大值有所增大,压力最小值有所减小;此外无量纲载荷和转矩的数值也变小。 |
| 资助信息 | 国家自然科学基金项目(50675185); 教育部新世纪人才项目(NCET06-0708) |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-05-27 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/33221]  |
| 专题 | 力学研究所_高温气体动力学国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高太元,李明军. 表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响[J]. 润滑与密封,2009(8):33-38+52. |
| APA | 高太元,&李明军.(2009).表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响.润滑与密封(8),33-38+52. |
| MLA | 高太元,et al."表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响".润滑与密封 .8(2009):33-38+52. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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