防汞蒸汽污染的新型霓虹灯制造设备
文献类型：专利
| 作者 | 张永才 ; 汪涌 |
| 发表日期 | 2010-12-24 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院电子学研究所 |
| 中文摘要 | 防汞蒸汽污染的新型霓虹灯制造设备包括机械泵１０、分子泵７、电磁阀９、真空阀４、微调针阀８，在分子泵７与排气接头２之间有一汞珠陷井３。本实用新型由于使用了分子泵，使得系统真空度较高，不怕暴露大气，汞珠陷井的存在，避免了汞对真空系统和大气的污染，该设备的使用大大提高了霓虹灯的质量和寿命。 |
| 公开日期 | 1995 ; 2010-12-24 |
| 申请日期 | 1994 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN94205130.0 |
| 专利代理 | 戎志敏 |
| 源URL | [http://159.226.65.12/handle/80137/4909]  |
| 专题 | 电子学研究所_高功率微波源与技术院重点实验室_高功率微波源与技术院重点实验室_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张永才,汪涌 . 防汞蒸汽污染的新型霓虹灯制造设备. 2010-12-24. |
入库方式： OAI收割
来源：电子学研究所
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