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一种高Al组分AlGaN薄膜的制备方法

文献类型:专利

作者毛德丰 ; 李维 ; 王维颖 ; 金鹏 ; 王占国
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体研究所
学科主题半导体材料
公开日期2014-05-21
申请日期2014-02-19
专利申请号CN201410056560.9
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25750]  
专题半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
毛德丰,李维,王维颖,等. 一种高Al组分AlGaN薄膜的制备方法.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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