一种高Al组分AlGaN薄膜的制备方法
文献类型:专利
作者 | 毛德丰 ; 李维 ; 王维颖 ; 金鹏 ; 王占国 |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院半导体研究所 |
学科主题 | 半导体材料 |
公开日期 | 2014-05-21 |
申请日期 | 2014-02-19 |
专利申请号 | CN201410056560.9 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25750] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 毛德丰,李维,王维颖,等. 一种高Al组分AlGaN薄膜的制备方法. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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