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氮化镓激光器腔面的制作方法

文献类型:专利

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作者田迎冬; 董鹏; 张韵; 闫建昌; 孙莉莉; 王军喜; 李晋闽
专利国别中国
著作权人中国科学院半导体研究所
专利类型发明
国家中国
文献子类发明
权利人中国科学院半导体研究所
学科主题半导体器件 ; 半导体器件
公开日期2014-04-02 ; 2014-04-02
申请日期2013-11-27 ; 2013-11-27
专利申请号CN201310637212.6
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25438]  
专题半导体研究所_中科院半导体照明研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
田迎冬,董鹏,张韵,等. 氮化镓激光器腔面的制作方法, 氮化镓激光器腔面的制作方法.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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