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一种II型III-V族量子点材料的生长方法

文献类型:专利

作者崔凯 ; 马文全 ; 张艳华
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体研究所
学科主题半导体材料
公开日期2013-07-31
申请日期2013-05-02
专利申请号CN201310157823.0
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25629]  
专题半导体研究所_纳米光电子实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
崔凯,马文全,张艳华. 一种II型III-V族量子点材料的生长方法.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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