均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔
文献类型：专利
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| 作者 | 梁长浩 ; 刘俊
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| 发表日期 | 2014-12-25 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院 |
| 公开日期 | 2014-12-25 |
| 申请日期 | 2011-06-18 |
| 专利申请号 | CN201120206259.3 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/13320]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁长浩,刘俊. 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔, 均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔. 2014-12-25. |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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