高纯硅中痕量元素分析方法研究进展
文献类型:期刊论文
作者 | 刘洁 ; 钱荣 ; 卓尚军 ; 99 |
刊名 | 理化检验-化学分析
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出版日期 | 2013-05-01 |
卷号 | 49期号:1页码:121 |
ISSN号 | 1001-4020 |
其他题名 | Progress of Researehes of Methods for Determination of Trace |
通讯作者 | 钱荣 |
中文摘要 | 综述了从1980一20 12 年间测定高纯硅中痕量元素分析方法的研究进展" 高纯硅中痕 量元素的主要分析方法包括红外光谱法!原子发射光谱法!原子吸收光谱法!X 射线荧光光谱法!极 谱法!离子探针与离子色谱法!二次离子质谱法!辉光放电质谱法!电感藕合等离子体质谱法等;并 对高纯硅中痕量元素的分析方法进行了展望(引用文献59 篇) " |
学科主题 | 分析化学 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2014-12-18 |
源URL | [http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/4914] ![]() |
专题 | 上海硅酸盐研究所_无机材料分析测试中心_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘洁,钱荣,卓尚军,等. 高纯硅中痕量元素分析方法研究进展[J]. 理化检验-化学分析,2013,49(1):121. |
APA | 刘洁,钱荣,卓尚军,&99.(2013).高纯硅中痕量元素分析方法研究进展.理化检验-化学分析,49(1),121. |
MLA | 刘洁,et al."高纯硅中痕量元素分析方法研究进展".理化检验-化学分析 49.1(2013):121. |
入库方式: OAI收割
来源:上海硅酸盐研究所
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