高纯硅中痕量元素分析方法研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘洁 ; 钱荣 ; 卓尚军 ; 99 |
| 刊名 | 理化检验-化学分析
 |
| 出版日期 | 2013-05-01 |
| 卷号 | 49期号:1页码:121 |
| ISSN号 | 1001-4020 |
| 其他题名 | Progress of Researehes of Methods for Determination of Trace |
| 通讯作者 | 钱荣 |
| 中文摘要 | 综述了从1980一20 12 年间测定高纯硅中痕量元素分析方法的研究进展" 高纯硅中痕 量元素的主要分析方法包括红外光谱法!原子发射光谱法!原子吸收光谱法!X 射线荧光光谱法!极 谱法!离子探针与离子色谱法!二次离子质谱法!辉光放电质谱法!电感藕合等离子体质谱法等;并 对高纯硅中痕量元素的分析方法进行了展望(引用文献59 篇) " |
| 学科主题 | 分析化学 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-12-18 |
| 源URL | [http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/4914]  |
| 专题 | 上海硅酸盐研究所_无机材料分析测试中心_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘洁,钱荣,卓尚军,等. 高纯硅中痕量元素分析方法研究进展[J]. 理化检验-化学分析,2013,49(1):121. |
| APA | 刘洁,钱荣,卓尚军,&99.(2013).高纯硅中痕量元素分析方法研究进展.理化检验-化学分析,49(1),121. |
| MLA | 刘洁,et al."高纯硅中痕量元素分析方法研究进展".理化检验-化学分析 49.1(2013):121. |
入库方式： OAI收割
来源：上海硅酸盐研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。