Growth of Crystalline Ge1-xSnx Films on Si by Magnetron Sputtering
文献类型：期刊论文
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| 作者 | Zheng, J; Li, LL; Zhou, TW; Zuo, YH; Li, CB; Cheng, BW; Wang, QM |
| 刊名 | ecs solid state letters
 ; ECS SOLID STATE LETTERS
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| 出版日期 | 2014 ; 2014 |
| 卷号 | 3期号:9页码:p111-p113 |
| 学科主题 | 光电子学 ; 光电子学 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2015-03-25 ; 2015-03-25 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26167]  |
| 专题 | 半导体研究所_光电子研究发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zheng, J,Li, LL,Zhou, TW,et al. Growth of Crystalline Ge1-xSnx Films on Si by Magnetron Sputtering, Growth of Crystalline Ge1-xSnx Films on Si by Magnetron Sputtering[J]. ecs solid state letters, ECS SOLID STATE LETTERS,2014, 2014,3, 3(9):p111-p113, P111-P113. |
| APA | Zheng, J.,Li, LL.,Zhou, TW.,Zuo, YH.,Li, CB.,...&Wang, QM.(2014).Growth of Crystalline Ge1-xSnx Films on Si by Magnetron Sputtering.ecs solid state letters,3(9),p111-p113. |
| MLA | Zheng, J,et al."Growth of Crystalline Ge1-xSnx Films on Si by Magnetron Sputtering".ecs solid state letters 3.9(2014):p111-p113. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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