基片偏压对磁控溅射制备TiB_2涂层结构及性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谷文翠 ; 李寿德 ; 王怀勇 ; 陈春立 ; 李朋 ; 黄峰 |
| 刊名 | 航空材料学报
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| 出版日期 | 2014 |
| 卷号 | 5页码:37-42 |
| 公开日期 | 2015-04-16 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/11336]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_2014专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谷文翠,李寿德,王怀勇,等. 基片偏压对磁控溅射制备TiB_2涂层结构及性能的影响[J]. 航空材料学报,2014,5:37-42. |
| APA | 谷文翠,李寿德,王怀勇,陈春立,李朋,&黄峰.(2014).基片偏压对磁控溅射制备TiB_2涂层结构及性能的影响.航空材料学报,5,37-42. |
| MLA | 谷文翠,et al."基片偏压对磁控溅射制备TiB_2涂层结构及性能的影响".航空材料学报 5(2014):37-42. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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