Effects of Y on helium behavior in Ti-Y alloy films
文献类型：期刊论文
| 作者 | J. C. Zhang ; E. D. Wu ; S. Liu |
| 刊名 | Journal of Nuclear Materials
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| 出版日期 | 2014 |
| 卷号 | 454期号:1-3页码:119-125 |
| 关键词 | ion-implanted helium base alloys growth nucleation metals microstructure irradiation suppression palladium vanadium |
| ISSN号 | 0022-3115 |
| 原文出处 | |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2015-01-14 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73494]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | J. C. Zhang,E. D. Wu,S. Liu. Effects of Y on helium behavior in Ti-Y alloy films[J]. Journal of Nuclear Materials,2014,454(1-3):119-125. |
| APA | J. C. Zhang,E. D. Wu,&S. Liu.(2014).Effects of Y on helium behavior in Ti-Y alloy films.Journal of Nuclear Materials,454(1-3),119-125. |
| MLA | J. C. Zhang,et al."Effects of Y on helium behavior in Ti-Y alloy films".Journal of Nuclear Materials 454.1-3(2014):119-125. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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