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轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响

文献类型:期刊论文

作者徐焱良 ; 王向红 ; 赵彦辉 ; 高斌 ; 肖金泉 ; 于宝海
刊名南昌大学学报(理科版)
出版日期2014-10-25
期号5页码:458-462
关键词电弧离子镀 轴向磁场 TiN薄膜 硬度
中文摘要采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积了TiN薄膜,考察了弧靶与基体之间等离子通道上的轴向磁场强度(0-300高斯)对薄膜表面形貌、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明,随着轴向磁场的不断增强,等离子体密度及能量密度不断增大,阴极靶斑点处被熔化的靶材区域增大,阴极斑点附近局部蒸气压升高,薄膜表面较大尺寸的大颗粒数、凹坑数量会因此增多,薄膜粗糙度会因此增大;生长取向由(111)面择优转为(220)面择优并最终趋向无择优取向;薄膜表面硬度及弹性模量均呈现先增大后减小的趋势。
公开日期2015-05-11
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74052]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
徐焱良,王向红,赵彦辉,等. 轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响[J]. 南昌大学学报(理科版),2014(5):458-462.
APA 徐焱良,王向红,赵彦辉,高斌,肖金泉,&于宝海.(2014).轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响.南昌大学学报(理科版)(5),458-462.
MLA 徐焱良,et al."轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响".南昌大学学报(理科版) .5(2014):458-462.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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