应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郎文昌 ; 徐焱良 ; 杜昊 ; 肖金泉 ; 高斌 ; 吴百中 |
| 刊名 | 真空
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| 出版日期 | 2015-01-25 |
| 期号 | 1页码:39-44 |
| 关键词 | 矩形平面大弧源 旋转式柱形弧源 机械式旋转磁控弧源 电磁式旋转磁控弧源 多模式动态磁控弧源 |
| 中文摘要 | 针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。 |
| 公开日期 | 2015-05-11 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74086]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郎文昌,徐焱良,杜昊,等. 应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析[J]. 真空,2015(1):39-44. |
| APA | 郎文昌,徐焱良,杜昊,肖金泉,高斌,&吴百中.(2015).应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析.真空(1),39-44. |
| MLA | 郎文昌,et al."应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析".真空 .1(2015):39-44. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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