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掺杂TiO_2对ZnO压敏陶瓷电学性能的影响

文献类型:期刊论文

作者于晓华 ; 荣菊 ; 詹肇麟 ; 王远
刊名材料热处理学报
出版日期2015-03-25
期号3页码:31-34
关键词ZnO压敏陶瓷 TiO2掺杂 压敏电压 非线性系数 漏电流
中文摘要以ZnO粉末为主要原料,以TiO2、Bi2O3、MnO2、Co2O3、Sb2O3为组元,在常规电子陶瓷生产工艺下制备低压化ZnO压敏陶瓷。将掺杂TiO2的陶瓷片与未掺杂TiO2的陶瓷片进行对比分析,确定最佳掺杂量。采用能谱仪分析瓷片的微区成分,采用SEM观察瓷片断口形貌,利用压敏电阻直流参数仪测量瓷片的电学性能。研究结果表明,瓷片内部主要存在富Bi晶界、Bi贫化晶界和晶粒直接接触晶界;TiO2对ZnO晶粒有助长作用,不掺杂纳米TiO2陶瓷是11.4μm,掺杂纳米TiO2高达30.5μm;当TiO2掺杂量为1.5%mol时瓷片电学性能较优,即压敏电压为31.2 V/mm、漏电流为0.028 m A及为非线性系数为20.1。
公开日期2015-05-11
源URL[http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/74128]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
于晓华,荣菊,詹肇麟,等. 掺杂TiO_2对ZnO压敏陶瓷电学性能的影响[J]. 材料热处理学报,2015(3):31-34.
APA 于晓华,荣菊,詹肇麟,&王远.(2015).掺杂TiO_2对ZnO压敏陶瓷电学性能的影响.材料热处理学报(3),31-34.
MLA 于晓华,et al."掺杂TiO_2对ZnO压敏陶瓷电学性能的影响".材料热处理学报 .3(2015):31-34.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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