偏压对直流磁控溅射制备的AlB2-type WB2薄膜结构和性能的影响
文献类型：会议论文
| 作者 | 刘艳明 ; 蒋春磊 ; 裴志亮 ; 雷浩 ; 宫骏 ; 孙超 |
| 出版日期 | 2014 |
| 会议名称 | 第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛 |
| 会议日期 | 2014 |
| 会议地点 | 中国湖北武汉 |
| 关键词 | AlB2-type WB2薄膜 直流磁控溅射 硬度 摩擦磨损 结合力 |
| 页码 | 6 |
| 中文摘要 | 本文采用YG8(WC-Co)硬质合金为基体,用直流磁控溅射的方法制备了不同偏压下的AlB2-type WB2硬质薄膜。采用X射线衍射(XRD),电子探针(EPMA),场发射扫描电镜(FESEM),原子力显微镜(AFM),纳米压痕仪,球盘式磨擦仪及划痕仪等,研究了偏压对薄膜的组织、元素组成及力学和摩擦学性能的影响。结果显示,沉积的薄膜均呈现出富W的低化学计量比,并具有明显的柱状结构。随着偏压的增加,薄膜的B/W原子比降低,柱子尺寸明显增加,晶粒尺寸先增加后降低,且择优取向从(001)转变为(101),这些因素均导致薄膜的性能有所降低。而沉积速率也随着偏压增加先增加后降低,并在-100 V偏压下取得峰值。综合评价,-50V偏压下沉积的薄膜呈现出最优异的性能,具有最高的硬度35.9 GPa,最强的膜基结合力50N,较低的摩擦系数0.36和最低的磨损率2.3×10-7 mm3/mN。 |
| 会议主办者 | 中国机械工程学会表面工程分会、中国表面工程协会 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/73725]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘艳明,蒋春磊,裴志亮,等. 偏压对直流磁控溅射制备的AlB2-type WB2薄膜结构和性能的影响[C]. 见:第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛. 中国湖北武汉. 2014. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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