大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宁永强 ; 张金龙; 王立军
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| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 2014-01-09 |
| 期号 | 1页码:151-155 |
| 关键词 | 激光器 腔面膜 激光损伤 电场分布 |
| 中文摘要 | 为了提高半导体激光器腔面膜的激光损伤阈值,进而提高激光器输出功率,对激光器的灾变性光学镜面损伤产生的原因进行了探讨。根据损伤原理,将高反膜中场强最大处移出界面,采用光学传输矩阵,对厚度连续变化的界面场强和反射率进行了计算,得到优化高反膜系,优化膜系减小了界面处的光场对薄膜的损伤。采用改进后束流密度更大的LaB6作为阴极原位等离子源,对离子源清洗的参数进行了优化。薄膜制备前期使用离子清洗的方法在真空环境下对腔面进行去氧化,在制备过程中使用电子束蒸发离子源辅助沉积,并测试了薄膜在高温高湿环境下的稳定性。使用该优化的膜系和清洗方法制备的半导体激光器,在准连续输出时,功率由4.6 W提升到了7.02W,工作电流由5A提升到了8A。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-05-27 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42645]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宁永强,张金龙,王立军. 大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化[J]. 中国激光,2014(1):151-155. |
| APA | 宁永强,张金龙,&王立军.(2014).大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化.中国激光(1),151-155. |
| MLA | 宁永强,et al."大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化".中国激光 .1(2014):151-155. |
入库方式： OAI收割
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