绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄剑波 ; 王鹤; 王尧; 卢振武; 刘华; 谭向全; 孙强
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| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 2014-07-14 |
| 期号 | 7页码:1814-1819 |
| 关键词 | 绝对式光栅尺 光栅码道 母尺刻划 数字微镜器件 曝光头 计量光栅 |
| 中文摘要 | 提出了基于数字微镜器件(DMD)的双曝光头总体结构,该结构可同时刻划母尺的周期和非周期两个光栅码道。单曝光头包含曝光光源、调焦光源、DMD和投影镜头四部分,曝光光源由激光器、准直镜组、二维微透镜阵列和场镜组成。本文利用光学软件TracePro设计该光源,实现了能量的平顶分布,在14mm×10mm的照明面上均匀性达到95%以上。利用光学软件Zemax设计了工作在双波段(曝光光源0.403～0.407μm和调焦光源0.525～0.535μm)的共焦投影镜头,采用了二向色镜和分光棱镜使其能在曝光的同时进行实时调焦,优化后的系统在曝光波段和调焦波段均达到衍射极限,最大畸变为0.009%。与传统的光栅尺刻划技术对比,设计的曝光系统具有工艺简单、制作速度快、精度高等优势,可用于长、超长计量光栅的制作。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-05-27 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42927]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄剑波,王鹤,王尧,等. 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统[J]. 光学精密工程,2014(7):1814-1819. |
| APA | 黄剑波.,王鹤.,王尧.,卢振武.,刘华.,...&孙强.(2014).绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统.光学精密工程(7),1814-1819. |
| MLA | 黄剑波,et al."绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统".光学精密工程 .7(2014):1814-1819. |
入库方式： OAI收割
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