碳化硅反射镜表面粗糙度的优化
文献类型：期刊论文
| 作者 | 范镝
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| 刊名 | 激光与光电子学进展
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| 出版日期 | 2014-09-09 |
| 期号 | 9页码:209-213 |
| 关键词 | 光学制造 碳化硅 抛光 表面粗糙度 优化 |
| 中文摘要 | 空间光学技术的迅猛发展对空间光学系统提出了更高的要求;碳化硅材料以其优秀的物理性质,成为广泛应用的反射镜材料;碳化硅反射镜的光学加工研究也在国内外广泛开展。简要讨论了碳化硅反射镜的抛光机理;介绍了碳化硅材料抛光的实验方法;定性分析了碳化硅材料的抛光过程;通过大量的工艺实验和理论分析,讨论磨料粒度、抛光盘材料、抛光盘压力、抛光盘转速、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅反射镜表面粗糙度的影响,并对各个参数加以优化,得到了优良的实验结果。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-05-27 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43410]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 范镝. 碳化硅反射镜表面粗糙度的优化[J]. 激光与光电子学进展,2014(9):209-213. |
| APA | 范镝.(2014).碳化硅反射镜表面粗糙度的优化.激光与光电子学进展(9),209-213. |
| MLA | 范镝."碳化硅反射镜表面粗糙度的优化".激光与光电子学进展 .9(2014):209-213. |
入库方式： OAI收割
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