热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张立超 ; 时光; 梅林; 才玺坤
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| 刊名 | 中国光学
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| 出版日期 | 2014-10-15 |
| 期号 | 5页码:808-815 |
| 关键词 | 薄膜 LaF3 热蒸发 离子束溅射 应力 减反膜 |
| 中文摘要 | 研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后,采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明,热蒸发制备的LaF3(RH LaF3)存在折射率的不均匀性,在193 nm,其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4,而离子束溅射制备的LaF3(IBS LaF3)折射率和消光系数分别为1.714和9×10-4。两种薄膜表现出相反的应力状态,RH LaF3薄膜具有张应力,而IBS LaF3具有压应力,退火之后其压应力减小。热蒸发制备的MgF2/LaF3减反膜在193 nm透过率为99.4%,反射率为0.04%,离子束溅射制备的AlF3/LaF3减反膜透过率为99.2%,反射率为0.1%。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-05-27 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43416]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张立超,时光,梅林,等. 热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性[J]. 中国光学,2014(5):808-815. |
| APA | 张立超,时光,梅林,&才玺坤.(2014).热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性.中国光学(5),808-815. |
| MLA | 张立超,et al."热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性".中国光学 .5(2014):808-815. |
入库方式： OAI收割
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