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绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计

文献类型:期刊论文

作者谭向全; 郑黎明
刊名机电产品开发与创新
出版日期2014-03-27
期号2页码:108-109+79
关键词绝对式光栅尺 母尺光栅 刻划装置 曝光光源
中文摘要简述了绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计方案。针对曝光光源均匀性、图案畸变、精确放大倍率等难点问题,设计了刻划装置的专业装调方案。同时利用刻划装置的物理样机进行曝光加工,得到了满足设计要求的母光栅码道图案。
语种中文
公开日期2015-05-27
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43602]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
谭向全,郑黎明. 绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计[J]. 机电产品开发与创新,2014(2):108-109+79.
APA 谭向全,&郑黎明.(2014).绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计.机电产品开发与创新(2),108-109+79.
MLA 谭向全,et al."绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计".机电产品开发与创新 .2(2014):108-109+79.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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