Effect of annealing temperature on the contact properties of Ni/V/4H-SiC structure
文献类型：期刊论文
| 作者 | Dai CC(代冲冲); Liu XC(刘学超); Zhou TY(周天宇); Zhuo SY(卓世异); Kong HK(孔海宽); Yang JH(杨建华); Shi EW(施尔畏) |
| 刊名 | AIP ADVANCES
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| 出版日期 | 2014-04-15 |
| 期号 | 4页码:047125-1 |
| 学科主题 | 人工晶体 |
| 语种 | 英语 |
| WOS记录号 | WOS:000336082000042 |
| 源URL | [http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/6233]  |
| 专题 | 上海硅酸盐研究所_中试基地_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Dai CC,Liu XC,Zhou TY,et al. Effect of annealing temperature on the contact properties of Ni/V/4H-SiC structure[J]. AIP ADVANCES,2014(4):047125-1. |
| APA | Dai CC.,Liu XC.,Zhou TY.,Zhuo SY.,Kong HK.,...&Shi EW.(2014).Effect of annealing temperature on the contact properties of Ni/V/4H-SiC structure.AIP ADVANCES(4),047125-1. |
| MLA | Dai CC,et al."Effect of annealing temperature on the contact properties of Ni/V/4H-SiC structure".AIP ADVANCES .4(2014):047125-1. |
入库方式： OAI收割
来源：上海硅酸盐研究所
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