离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杨生荣
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| 刊名 | 摩擦学学报
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| 出版日期 | 1995 |
| 卷号 | 15期号:4页码:341-347 |
| 关键词 | 离子束增强沉积 磁控溅射 MoS2薄膜 减摩性 耐磨性 ion beam enhanced deposition magnetron sputtering MoS2 thin film friction reduction wear-resistance |
| ISSN号 | 1004-0595 |
| 通讯作者 | 庄大明 |
| 中文摘要 | 在离子束增强沉积的Si3N4膜和TiN膜的表面，分别利用离子束增强沉积法和磁控溅射法制取了MoSx薄膜．在SRV摩擦磨损试验机上，对几种薄膜试样与52100钢试样作了对比试验研究，结果表明，两种MoSx薄膜都具有良好的摩擦磨损性能．其中，磁控溅射MoSx膜的减摩性能更好，而减摩持久性则是以离子束增强沉积MoSx膜的更好；两种MoSx膜的耐磨性比Si3N4膜和TiN膜的高3-4倍，比52100钢的高8-20倍．两种MoSx薄膜显示出不同的减摩性能和耐磨寿命，主要原因在于MoSx溅射膜中的x值(x＜2)不同，以及膜的微观结构和界面成分的混合状态不同． |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-07-09 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/7387]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_非现建制 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨生荣. 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报,1995,15(4):341-347. |
| APA | 杨生荣.(1995).离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究.摩擦学学报,15(4),341-347. |
| MLA | 杨生荣."离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究".摩擦学学报 15.4(1995):341-347. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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