原位聚合法制备多孔高聚物PLOT柱涂层厚度的计算公式
文献类型：期刊论文
| 作者 | 阮宗琴 ; 刘汉勋 |
| 刊名 | 色谱
 |
| 出版日期 | 1995 |
| 卷号 | 13期号:1页码:1-2 |
| 关键词 | 气相色谱 高聚物PLOT柱 涂层厚度 原位聚合 gas chromatography polymer PLOT column layer thickness in situ polymerization |
| ISSN号 | 1000-8713 |
| 通讯作者 | 刘汉勋 |
| 中文摘要 | 讨论了原位聚合法制备有机多孔高聚物PLOT柱中毛细管半径r，反应液浓度C及涂层厚度ds的关系，并通过实验建立了一个计算涂层厚度ds的经验公式。 |
| 学科主题 | 分析化学 |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-07-09 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/7431]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_非现建制 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 阮宗琴,刘汉勋. 原位聚合法制备多孔高聚物PLOT柱涂层厚度的计算公式[J]. 色谱,1995,13(1):1-2. |
| APA | 阮宗琴,&刘汉勋.(1995).原位聚合法制备多孔高聚物PLOT柱涂层厚度的计算公式.色谱,13(1),1-2. |
| MLA | 阮宗琴,et al."原位聚合法制备多孔高聚物PLOT柱涂层厚度的计算公式".色谱 13.1(1995):1-2. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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