偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李沛 ; 谷文翠 ; 钟庆东 ; 贾丛丛 ; 黄峰 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2015-05-15 |
| 公开日期 | 2015-09-06 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/11474]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_2015专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李沛,谷文翠,钟庆东,等. 偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2015. |
| APA | 李沛,谷文翠,钟庆东,贾丛丛,&黄峰.(2015).偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响.真空科学与技术学报. |
| MLA | 李沛,et al."偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响".真空科学与技术学报 (2015). |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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