Variation of the deposition rate during ion beam sputter deposition of optical thin films
文献类型：期刊论文
| 作者 | Liu Hongxiang ; Xiong Shengming ; Zhang Yundong |
| 刊名 | Thin Solid Films
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 484页码:170 |
| 通讯作者 | HongXiang Liu |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1303]  |
| 专题 | 光电技术研究所_薄膜光学技术研究室（十一室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu Hongxiang,Xiong Shengming,Zhang Yundong. Variation of the deposition rate during ion beam sputter deposition of optical thin films[J]. Thin Solid Films,2005,484:170. |
| APA | Liu Hongxiang,Xiong Shengming,&Zhang Yundong.(2005).Variation of the deposition rate during ion beam sputter deposition of optical thin films.Thin Solid Films,484,170. |
| MLA | Liu Hongxiang,et al."Variation of the deposition rate during ion beam sputter deposition of optical thin films".Thin Solid Films 484(2005):170. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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