An investigation on capability of polarization control for immersion lithography through simulation
文献类型：期刊论文
| 作者 | Yu Guobin ; Xing Tingwen ; Yao Hanmin |
| 刊名 | Chinese Optics Letters
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 3期号:增刊页码:198-199 |
| 通讯作者 | 余国彬 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1291]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微电子装备总体研究室（四室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yu Guobin,Xing Tingwen,Yao Hanmin. An investigation on capability of polarization control for immersion lithography through simulation[J]. Chinese Optics Letters,2005,3(增刊):198-199. |
| APA | Yu Guobin,Xing Tingwen,&Yao Hanmin.(2005).An investigation on capability of polarization control for immersion lithography through simulation.Chinese Optics Letters,3(增刊),198-199. |
| MLA | Yu Guobin,et al."An investigation on capability of polarization control for immersion lithography through simulation".Chinese Optics Letters 3.增刊(2005):198-199. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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