光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈旭南 ; 石建平 ; 罗先刚 ; 康西巧 |
| 刊名 | 微纳电子技术
 |
| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 41期号:9页码:41-43 |
| 通讯作者 | 陈旭南 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/865]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈旭南,石建平,罗先刚,等. 光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析[J]. 微纳电子技术,2004,41(9):41-43. |
| APA | 陈旭南,石建平,罗先刚,&康西巧.(2004).光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析.微纳电子技术,41(9),41-43. |
| MLA | 陈旭南,et al."光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析".微纳电子技术 41.9(2004):41-43. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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