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用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术

文献类型:期刊论文

作者冯伯儒 ; 张锦 ; 宗德蓉 ; 刘娟 ; 陈宝钦 ; 刘明
刊名光电工程
出版日期2004
卷号31期号:1页码:1-4,39
通讯作者冯伯儒
收录类别Ei
语种中文
公开日期2015-12-24
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/867]  
专题光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
推荐引用方式
GB/T 7714
冯伯儒,张锦,宗德蓉,等. 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术[J]. 光电工程,2004,31(1):1-4,39.
APA 冯伯儒,张锦,宗德蓉,刘娟,陈宝钦,&刘明.(2004).用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术.光电工程,31(1),1-4,39.
MLA 冯伯儒,et al."用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术".光电工程 31.1(2004):1-4,39.

入库方式: OAI收割

来源:光电技术研究所

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