用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术
文献类型:期刊论文
作者 | 冯伯儒 ; 张锦 ; 宗德蓉 ; 刘娟 ; 陈宝钦 ; 刘明 |
刊名 | 光电工程
![]() |
出版日期 | 2004 |
卷号 | 31期号:1页码:1-4,39 |
通讯作者 | 冯伯儒 |
收录类别 | Ei |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2015-12-24 |
源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/867] ![]() |
专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室(开放室) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯伯儒,张锦,宗德蓉,等. 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术[J]. 光电工程,2004,31(1):1-4,39. |
APA | 冯伯儒,张锦,宗德蓉,刘娟,陈宝钦,&刘明.(2004).用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术.光电工程,31(1),1-4,39. |
MLA | 冯伯儒,et al."用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术".光电工程 31.1(2004):1-4,39. |
入库方式: OAI收割
来源:光电技术研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。