用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯伯儒 ; 张锦 ; 宗德蓉 ; 刘娟 ; 陈宝钦 ; 刘明 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 31期号:1页码:1-4，39 |
| 通讯作者 | 冯伯儒 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/867]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯伯儒,张锦,宗德蓉,等. 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术[J]. 光电工程,2004,31(1):1-4，39. |
| APA | 冯伯儒,张锦,宗德蓉,刘娟,陈宝钦,&刘明.(2004).用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术.光电工程,31(1),1-4，39. |
| MLA | 冯伯儒,et al."用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术".光电工程 31.1(2004):1-4，39. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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