成像干涉光刻技术及其频域分析
文献类型:期刊论文
| 作者 | 刘娟 ; 冯伯儒 ; 张锦 |
| 刊名 | 光电工程
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 31期号:10页码:24-27 |
| 通讯作者 | 刘娟 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/869] ![]() |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室(开放室) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘娟,冯伯儒,张锦. 成像干涉光刻技术及其频域分析[J]. 光电工程,2004,31(10):24-27. |
| APA | 刘娟,冯伯儒,&张锦.(2004).成像干涉光刻技术及其频域分析.光电工程,31(10),24-27. |
| MLA | 刘娟,et al."成像干涉光刻技术及其频域分析".光电工程 31.10(2004):24-27. |
入库方式: OAI收割
来源:光电技术研究所
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