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成像干涉光刻技术及其频域分析

文献类型:期刊论文

作者刘娟 ; 冯伯儒 ; 张锦
刊名光电工程
出版日期2004
卷号31期号:10页码:24-27
通讯作者刘娟
收录类别Ei
语种中文
公开日期2015-12-24
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/869]  
专题光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室(开放室)
推荐引用方式
GB/T 7714
刘娟,冯伯儒,张锦. 成像干涉光刻技术及其频域分析[J]. 光电工程,2004,31(10):24-27.
APA 刘娟,冯伯儒,&张锦.(2004).成像干涉光刻技术及其频域分析.光电工程,31(10),24-27.
MLA 刘娟,et al."成像干涉光刻技术及其频域分析".光电工程 31.10(2004):24-27.

入库方式: OAI收割

来源:光电技术研究所

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