用多光束干涉实现纳米级阵列图形的长焦深光刻
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张锦 ; 冯伯儒 ; 郭永康 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 31期号:3页码:8-11 |
| 通讯作者 | 张锦 |
| 收录类别 | Ei |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/873]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张锦,冯伯儒,郭永康. 用多光束干涉实现纳米级阵列图形的长焦深光刻[J]. 光电工程,2004,31(3):8-11. |
| APA | 张锦,冯伯儒,&郭永康.(2004).用多光束干涉实现纳米级阵列图形的长焦深光刻.光电工程,31(3),8-11. |
| MLA | 张锦,et al."用多光束干涉实现纳米级阵列图形的长焦深光刻".光电工程 31.3(2004):8-11. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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