成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘娟 ; 张锦 ; 冯伯儒 |
| 刊名 | 半导体学报
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 26期号:7页码:1480-1484 |
| 通讯作者 | 刘娟 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1349]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘娟,张锦,冯伯儒. 成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析[J]. 半导体学报,2005,26(7):1480-1484. |
| APA | 刘娟,张锦,&冯伯儒.(2005).成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析.半导体学报,26(7),1480-1484. |
| MLA | 刘娟,et al."成像干涉光刻技术与离轴照明光刻技术的对比分析".半导体学报 26.7(2005):1480-1484. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。