烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 唐雄贵 ; 姚欣 ; 郭永康 |
| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 3页码:31- |
| 通讯作者 | 唐雄贵 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1350]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 唐雄贵,姚欣,郭永康. 烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响[J]. 微细加工技术,2005(3):31-. |
| APA | 唐雄贵,姚欣,&郭永康.(2005).烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响.微细加工技术(3),31-. |
| MLA | 唐雄贵,et al."烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响".微细加工技术 .3(2005):31-. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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