双光束双曝光与四光束单曝光干涉光刻方法的比较
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张锦 ; 冯伯儒 ; 郭永康 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 32期号:12 |
| 通讯作者 | 张锦 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1352]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张锦,冯伯儒,郭永康. 双光束双曝光与四光束单曝光干涉光刻方法的比较[J]. 光电工程,2005,32(12). |
| APA | 张锦,冯伯儒,&郭永康.(2005).双光束双曝光与四光束单曝光干涉光刻方法的比较.光电工程,32(12). |
| MLA | 张锦,et al."双光束双曝光与四光束单曝光干涉光刻方法的比较".光电工程 32.12(2005). |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。