采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯伯儒 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:1页码:1~ |
| 通讯作者 | 冯伯儒 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1527]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯伯儒. 采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术[J]. 光电工程,2006,33(1):1~. |
| APA | 冯伯儒.(2006).采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术.光电工程,33(1),1~. |
| MLA | 冯伯儒."采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术".光电工程 33.1(2006):1~. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。