厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 唐雄贵 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 33期号:5页码:36~ |
| 通讯作者 | 唐雄贵 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2015-12-24 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1532]  |
| 专题 | 光电技术研究所_微细加工光学技术国家重点实验室（开放室） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 唐雄贵. 厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响[J]. 光电工程,2006,33(5):36~. |
| APA | 唐雄贵.(2006).厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响.光电工程,33(5),36~. |
| MLA | 唐雄贵."厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响".光电工程 33.5(2006):36~. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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